日本光刻机大厂佳能(Canon)在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印(Nanoprinted lithography,NIL)设备FPA-1200NZ2C之后,佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示,该公司新的纳米压印技术将为小型半导体制造商生产先进芯片开辟一条道路,使得生产先进芯片的技术不再只有少数大型半导体制造商所独享。纳米压印技术并不利用光学图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上,而是更类似于印刷技术,直接通过压印形成图案。在晶圆上只压印1次,就可以在特定的位置
日本佳能一直在投资纳米压印(Nano-imprint Lithography,NIL)这种新的芯片制造技术,并宣布推出“FPA-1200NZ2C”纳米压印半导体制造设备集群。计划将新型芯片制造设备的价格定为阿斯麦极紫外光刻机的十分之一左右,从而在光刻机领域取得进展。佳能首席执行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示,基于NIL的新型芯片制造设备售价将比阿斯麦(ASML)的极紫外光刻(EUV)设备少一位数,虽然最终的定价目前还没有敲定,但是可以预见将为小型芯片制造商生产先进芯片开辟出一条新的道路。
11月6日消息,日本佳能一直在投资纳米压印(Nano-imprint Lithography,NIL)这种新的芯片制造技术,并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分,从而在光刻机领域取得进展。纳米压印技术是极紫外光刻(EUV)技术的低成本替代品。佳能首席执行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示,该公司最新的纳米压印技术将为小型芯片制造商生产先进芯片开辟出一条道路。“这款产品的价格将比阿斯麦的EUV少一位数,”现年88岁的御手洗富士夫表示。这是他第三次担任佳能总裁,上一次退
10 月,光刻机大厂佳能(Canon)公司通过新闻稿宣布,其已经开始销售基于「纳米印刷」(Nanoprinted lithography)技术的芯片生产设备 FPA-1200NZ2C。佳能表示,该设备采用不同于复杂光刻技术的方案,可以制造 5nm 芯片。消息一出,不少人发现这种设备已经达到了 EUV 光刻机的水平,甚至将颠覆行业巨头 ASML。自从 ASML 成功取代尼康佳能,成为高端光刻机的唯一王者之后,这还是第一次传出这么震撼的消息。日本的光刻机,从称霸到被甩开,经历了什么?来自上个世纪的光鲜上世纪末
佳能于 10 月 13 日宣布,已将 FPA-1200NZ2C 商业化,这是一种纳米压印半导体制造系统,利用纳米压印光刻(NIL)技术实现尖端半导体电路的形成,并于当天开始接受订单。纳米压印半导体制造设备「FPA-1200NZ2C」传统的投影曝光设备(例如 ArF 和 EUV)通过用穿过图案掩模的光照射晶圆上的抗蚀剂来形成电路图案,但使用 NIL 时,电路被印刷在掩模(模板)本身上。通过形成不规则形状并将它们像邮票一样压在抗蚀剂上。通过从母版创建副本,可以多次使用掩码,这具有降低设备成本的优点。该公司的
佳能宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备,该设备执行电路图案转移。自日本佳能(Canon)官网获悉,10月13日,佳能宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备,该设备执行电路图案转移,这是最重要的半导体制造工艺。(FPA-1200NZ2C 图源:Canon)据悉,除了现有的光刻系统外,佳能还将采用纳米压印(NIL)技术的半导体制造设备推向市场,扩大其半导体制造设备阵容,以满足从最先进的半导体设备到现有设备的广泛需求。佳能官方介绍称,其NIL技术可实现最小线
IT之家10 月 14 日消息,佳能(Canon)公司近日发布新闻稿,开始销售芯片生产设备 FPA-1200NZ2C,表示采用不同于复杂光刻技术的方案,可以制造 5 nm 芯片。佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者 ASML 不同,并非光刻,而更类似于印刷,没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上。这套设备可以应用于最小 14 平方毫米的硅晶圆,从而可以生产相当于 5nm 工艺的芯片。佳能表示会继续改进和发展这套系统,未来有望用于生产 2nm 芯片。IT之家注:纳米印刷(
2023年9月13日,佳能(中国)有限公司宣布推出室内4K摄控一体机新品CR-N100、摄控一体机RC-IP1000以及多摄像机管理应用程序,进一步强化了佳能*1摄控一体机产品阵容。近年来,随着会议与授课线上化,市场对于直播和视频收录的需求不断增长。本次3款新品的发布,将进一步扩大顾客群范围,为专业视频制作以及企业会议、教育机构等利用视频内容开展交流活动提供广泛的支持。4K摄控一体机新品CR-N100摄控一体机RC-IP1000多摄像机管理应用程序(页面示例)搭载专业摄像机技术,带来高画质和丰
2023年7月11日-13日,佳能(中国)有限公司(以下简称“佳能(中国)”)首次亮相在国家会展中心(上海)举办的2023中国(上海)机器视觉展暨机器视觉技术及工业应用研讨会(以下简称“中国(上海)机器视觉展”)。本次参展,佳能带来了三款首次在中国内地亮相的重磅产品系列——包括自5月16日起在中国市场发售的佳能CMOS影像传感器产品,实现版本大升级的制造现场专用图像处理软件–Vision Edition 2.01,以及试展的佳能VISION-BASED定位导航系统。佳能亮相2023中国(上海)机器视觉展S
2023年5月31日,第十五届中国国际先进陶瓷展览会(IACE CHINA)在上海开幕,展会汇聚了来自粉末冶金、硬质合金、增材制造等众多领域的知名企业,聚焦行业尖端科技。本届展会,佳能(中国)有限公司携其陶瓷3D打印服务惊艳亮相,佳能*1以自主研发的3D打印用陶瓷材料,配合SLM(选择性激光熔融*2)技术,为用户提供陶瓷3D打印服务,收获众多行业客户及专业观众高度关注。 中国国际先进陶瓷展览会佳能展台 SLM技术结合陶瓷复合材料,有效提升陶瓷3D造形的精度和稳定性佳能陶瓷3D打印材料是以佳能以多
2023年5月24日,佳能光学设备(上海)有限公司亮相第十六届(2023)国际太阳能光伏与智慧能源(上海)大会暨展览会(以下简称“SNEC”)。首次参与SNEC,佳能带来了包括真空计系列产品、气体分析仪、扫描振镜、非接触式测长计产品在内的丰富产品阵容,以高精度、高稳定性及高耐用性的产品满足中国光伏市场的多元需求。佳能亮相2023 SNEC上海新国际博览中心E4-510展位当前,全球主要国家与地区陆续提出碳中和愿景目标,中国也将力争“2030年前实现碳达峰、2060年前实现碳中和”。这一背景下,
IT之家5 月 19 日消息,据“数码闲聊站”消息,相机厂商佳能有意与手机厂商合作联名。目前,国内手机市场形成了的小米-徕卡、vivo-蔡司、OPPO-哈苏的手机-相机厂商合作局面。网友猜测佳能可能会和荣耀或魅族合作。另据凤凰网科技报道,佳能方面在此前接受采访时确实提到了在研究与手机厂商合作。IT之家附佳能公司简介:佳能公司自 1937 年创业以来,始终秉承“共生”的企业理念,以创造世界一流产品为奋斗目标,向多元化和全球化发展。目前,佳能的事业以光学技术为核心,涵盖了印刷业务、影像业务、医疗业
2023年5月16日,佳能(中国)有限公司宣布将面向中国市场发售CMOS影像传感器,在中国地区开启影像传感器销售的新篇章。作为现代数码影像技术的核心,影像传感器已经深入到日常生活的方方面面。本次佳能将为中国市场带来超过20款能够应用于监控安防、平板显示器检测、显微镜应用、数位储存、流媒体相机、生物医疗等多元业务领域的传感器产品。凭借高分辨率、高速输出等优势,佳能CMOS影像传感器能够带来更清晰、更高品质的画面输出,满足更广泛的影像传感器使用需求。作为一家拥有超过八十年技术积淀的影像企业,佳能始终坚持关
目前全球仅4家厂商,能够制造光刻机,分别是荷兰的ASML,日本的尼康、佳能,和上海的微电子。从技术水平来看,ASML尼康佳能上海微电子。如下图所示,ASML的光刻机能够达到3nm的精度了,而尼康的主要在28nm及以上,而佳能、上海微电子的在90nm以上。再给大家一个数字,这是某机构统计的,2021年全球半导体前道光刻机的销售情况,从这张表可以看出来,小米7nm的EUV光刻机,ASML全部包揽。在45-7nm的光刻机上,仅有尼康、ASML能够推出,尼康也就是打酱油,仅卖出4台,另外的
2023年初始,佳能就率先发布了EOSR8、EOSR50等诸多新机身和镜头,为佳能在2023数码影像市场拔得头筹,虽然我当时参加了佳能EOSR8以及EOSR50的发布会,但是由于当时时间有限,并没有太多机会对佳能的高层进行一些详细的专访。本月中旬,我获得了一次难得的机会,对佳能(中国)有限公司执行副总裁石井俊幸先生、佳能(中国)有限公司项目副总经理栗开宇先生进行了一次专访,在本次专访上,我们也提出了很多网友们关心的问题,比如佳能为什么要用8命名新机型、佳能未来是否会开放RF卡口协议、佳能如何在2023年获
佳能是全球领先的生产影像与信息产品的综合集团。自1937年成立以来,经过多年不懈的努力,佳能已将自己的业务全球化并扩展到各个领域。目前,佳能的产品系列共分布于三大领域:个人产品、办公设备和工业设备,主要产品包括照相机及镜头、数码相机、打印机、复印机、传真机、扫描仪、广播设备、医疗器材及半导体生产设备等。佳能总部位于日本东京,并在美洲、欧洲、亚洲及日本设有4大区域性销售总部,在世界各地拥有子公司20 [查看详细]
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